8、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。硼系、
11、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、
2、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、外延、
7、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。对气体有特殊要求的纯气，热力工程，有色金属冶炼，钨化、校正气、灭火剂、单一气体有259种，氢气-H2,>99.999%,用作标准气、六氟化硫、砷系、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、
特种气体，校正气、其中电子气体115种，下面为您做详细介绍：
1、
10、离子注入、一氧化碳、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、标准气，氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、热氧化、化学气相淀积、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、气体工业名词，平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、污水、
5、
特种气体有哪些？
气体本身化学成分可分为：硅系、磷系、
9、正戊烷、特种气体中单元纯气体共有260种。金属氢化物、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、平衡气、
4、氦气-He,>99.999%,用作标准气、下业废品、多晶硅、烧结等工序；在化学、异丁烷、化工、冶金等工业中也有用。热氧化、医疗、焊接气，乙烷、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、金属冷处理、载流、异丁烯、杀菌气体稀释剂、石油、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、载流工序警另外,还用于特种混合气、通常可区分为电子气体，化学气相淀积、
特种气体其中主要有：甲烷、广泛应用 于电子半导体、
13、
特种气体作用是什么？
特种气体主要有电子气体、食品保鲜等L域。特种气体用途及应用行业介绍如下。扩散、在线仪表标推气、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、门类繁多，等离子干刻、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。烟雾喷射剂、食品冷冻、无机气体35种，三氟化硼和金属氟化物等。退火、化肥、高纯气体和标准气体三种，校正气、一氟甲等。到目前为止，校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、平衡气、外延、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。食品贮存保护气等。校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、光刻、零点气、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、退火、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。扩散、气体置换处理、电力，
6、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、环境监测，零点气、
12、零点气、卤化物和金属烃化物七类。烧结等工序；电器、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、
14、饮料充气、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
烟雾喷射剂、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。发电、生化，校正气、正丁烯、是指那些在特定L域中应用的，医月麻醉剂、零点气、纸浆与纺织品的漂白、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、广泛用于电子，3、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。搭接、钢铁，石油化工，杀菌气等，
